Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition

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Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition

Autor(en): Schwille, Matthias C.; Schoessler, Timo; Schoen, Florian; Oettel, Martin; Bartha, Johann W.
Tübinger Autor(en):
Oettel, Martin
Erschienen in: Journal of Vacuum Science & Technology A (2017), Bd. 35, Article 01B119
Verlagsangabe: A V S Amer Inst Physics
Sprache: Englisch
Referenz zum Volltext: http://dx.doi.org/10.1116/1.4971197
ISSN: 1520-8559
DDC-Klassifikation: 530 - Physik
600 - Technik
Dokumentart: Wissenschaftlicher Artikel
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