The Crucial Role of Confined Residual Additives on the Photostability of P3HT:PCBM Active Layers
Autor(en):
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Tournebize, Anrelien; Rivaton, Agnes; Peisert, Heiko; Chasse, Thomas
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Tübinger Autor(en):
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Erschienen in:
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Journal of Physical Chemistry C
(2015), Bd.
119,
H.
17,
S.
9142-9148
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Verlagsangabe:
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Amer Chemical Soc
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Sprache:
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Englisch
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Referenz zum Volltext:
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http://dx.doi.org/10.1021/acs.jpcc.5b01733
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ISSN:
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1932-7447
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DDC-Klassifikation:
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540 - Chemie 600 - Technik
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Dokumentart:
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Wissenschaftlicher Artikel
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