A comprehensive calibration of integrated magnetron sputtering and plasma enhanced chemical vapor deposition for rare-earth doped thin films

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A comprehensive calibration of integrated magnetron sputtering and plasma enhanced chemical vapor deposition for rare-earth doped thin films

Autor(en): Khatami, Zahra; Wolz, Lukas; Wojcik, Jacek; Mascher, Peter
Tübinger Autor(en):
Wolz, Lukas
Erschienen in: Journal of Materials Research (2024), Bd. 39, H. 1, S. 150-164
Verlagsangabe: Heidelberg : Springer Heidelberg
Sprache: Englisch
Referenz zum Volltext: http://dx.doi.org/10.1557/s43578-023-01207-2
ISSN: 0884-2914
DDC-Klassifikation: 600 - Technik
Dokumentart: Wissenschaftlicher Artikel
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