Magnetic behavior in metal-free radical thin films

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Magnetic behavior in metal-free radical thin films

Autor(en): Junghoefer, Tobias; Calzolari, Arrigo; Baev, Ivan; Glaser, Mathias; Ciccullo, Francesca; Giangrisostomi, Erika; Ovsyannikov, Ruslan; Kielgast, Fridtjof; Nissen, Matz; Schwarz, Julius; Gallagher, Nolan M.; Rajca, Andrzej; Martins, Michael; Casu, Maria Benedetta
Tübinger Autor(en):
Glaser, Mathias
Ciccullo, Francesca
Casu, Maria Benedetta
Junghöfer, Tobias
Erschienen in: Chem (2022), Bd. 8, H. 3, S. 801-814
Verlagsangabe: Cell Press
Sprache: Englisch
Referenz zum Volltext: http://dx.doi.org/10.1016/j.chempr.2021.11.021
ISSN: 2451-9294
DDC-Klassifikation: 540 - Chemie
Dokumentart: Wissenschaftlicher Artikel
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