Inhaltszusammenfassung:
Diese Arbeit beinhaltet im Wesentlichen die Untersuchung von dünnen
halbleitenden PTCDA-Aufdampfschichten mit gezielt einstellbarer n-Leitfähigkeit.
Die Einstellung der Leitfähigkeit durch kontrollierte n-Dotierung ist eine
wichtige Voraussetzung für einen möglichen Einsatz dieses Materials als
n-leitende Komponente in elektrischen Bauelementen. Neben der Charakterisierung
von reinen PTCDA-Filmen lag der wesentliche Schwerpunkt auf der Untersuchung
der Alkalimetall-Dotierung von PTCDA. Ziel war es zum einen, zu untersuchen,
ob die Wechselwirkung mit Alkalimetallatomen zu einer erfolgreichen n-Dotierung
des organischen Halbleiters führt, und zum anderen, diesen Dotierprozess
detailliert zu charakterisieren. Zu diesem Zweck wurden verschiedene
Untersuchungsmethoden angewandt. Die Analyse der geometrischen, chemischen und
elektronischen Struktur der Schichten erfolgte mittels Rasterkraftmikroskopie (SFM), UV/VIS-Spektroskopie und Röntgen- bzw. Ultraviolett-Photoelektronenspektroskopie (XPS bzw. UPS). Die Charakterisierung der elektrischen Eigenschaften erfolgte durch temperaturabhängige Messungen der spezifischen Leitfähigkeit und des Seebeck-Koeffizienten.
Dazu wurde eine vollständig neue UHV-Apparatur aufgebaut, die eine kombinierte und temperaturabhängige Bestimmung der o.g. elektrischen Messgrößen an in-situ präparierten PTCDA-Schichten erlaubt. Als wesentliches Ergebnis ist zu nennen, dass die Dotierung mit den Alkalimetallen Na und Cs erfolgreich verläuft und zu einer deutlichen Erhöhung der elektrischen Leitfähigkeit um bis zu 6 Größenordnungen führt. Die Dotieratome koordinieren dabei im Mittel an jedes zweite PTCDA-Molekül über die Anhydridgruppe. Dabei bleibt das PTCDA-Molekül stabil.
Die Dotierung ist im Falle von Na reversibel. Bei Verwendung von Cs als Dotiermittel ist, zumindest aus spektroskopischer Sicht, die n-Dotierung luftstabil.